DIC Forum·重磅嘉宾 | 迈康尼 (Mycronic) 产品经理Robert Eklund将出席并发表演讲

发布日期:2021-06-07

倒计时


27-Day countdown to DIC 2021


当前，中国已经成为全球新型显示产业的重要成长极，作为中国显示产业唯一的国家级行业协会，中国光学光电子行业协会液晶分会（CODA）精心打造的中国国际显示产业高峰论坛（DIC Forum）十二年初心不改，为显示行业获取前沿资讯，洞悉行业前景、创建交流契机提供专业平台，始终顺应产业发展趋势，旨在联结显示产业链上下游，力图推动产业链完善自主，协同共进。


2021年6月29日-30日，DIC Forum 2021将在上海浦东嘉里大酒店隆重启幕，届时会议现场将迎来欧阳钟灿院士、郑有炓院士、彭寿院士等行业大咖论道，观众可与国际显示行业专家近距离交流，看BOE、TCL华星、维信诺、天马微、默克、应用材料、奥宝、康宁、上海微、索尼、欣奕华、相干、集创北方、东京毅力科创等企业风采，体验最新赋能产业的创新成果，共商全产业协同集聚发展。


演讲嘉宾


迈康尼电子设备（上海）有限公司

Robert Eklund

 

演讲主题：《光掩模是平板显示器制造中的关键部件，对未来显示器的创新是不可或缺的》

 

演讲概要：今天，无论我们在哪里，我们都会发现自己被复杂的显示技术所包围——从电视、台式显示器、笔记本电脑、平板电脑、智能手机、可折叠手机、VR/AR到车载显示器——这些技术为用户提供了生动的高画质体验。显示器的发展是由显示器行业的快速技术发展推动的。如何设计和制造TFT（薄膜晶体管）是生产高质量高端显示器的关键之一。随着每个像素电路的复杂性和层数的增加，其变得更具挑战性。这些趋势使光刻对图像质量和光罩放置的要求更加严格。因此，显示用最高端光罩的要求可与280~300nm半导体设计节点光罩相媲美。许多半导体技术现在被用于显示器制造，如OPC（光学邻近校正），这意味着亚微米特性在高级层中越来越普遍。然而，显示用光罩比6英寸标准半导体光罩大30-80倍，因此需要24-48小时的曝光时间。因此，稳定性、位置精度和图像质量均匀性是光罩制造中支持未来显示创新的重要组成部分。


作为显示行业生产光罩光刻机的唯一供应商，Mycronic在技术的更新，以及支援显示行业创新方面有着悠久的历史。在本文中，Mycronic将分享最新的激光光刻机的开发，以及通过大数据分析，在初始阶段就能帮助和改善光罩厂的运营。



DIC EXPO



  The Photomask, A Critical Part in FPD Manufacturing, Indispensable for Future Display Innovations



Introduction：Everywhere we look today, we find ourselves surrounded by sophisticated display technologies – from TVs, Desktop Monitors, Notebooks, Tablets, Smartphones, Foldable phones, VR/AR to displays in cars – and those provide a great picture quality for a vivid experience to the users. The evolution of the displays are driven by a fast technological development in the display industry. One of the critical areas for the production of quality high-end displays is how to design and fabricate TFTs (Thin Film Transistors). It becomes more challenging as complexity of each pixel circuit and number of layers are increasing. These trends have tightened the lithography requirements for both image quality as well as placement on photomasks. As a result, the top critical display photomasks requirements are comparable to 280 ~ 300nm semiconductor design node photomasks. Many semicon techniques are now used in display manufacturing such as OPC (Optical Proximity Correction) meaning submicron features is getting common for advanced layers. However, a display photomask is 30 – 80 times larger than the 6”standard semiconductor photomask and consequently requires 24 – 48 hours exposure time. Therefore, stability, position accuracy and image quality uniformity is essential components at photomask manufacturing to support future display innovations.


As a unique supplier within display photomask writer, Mycronic has a long history in the evolution of the technologies to support display innovation. In this paper, Mycronic will share the latest laser photomask writer development together with the initial stage of applying big data analytics to improve mask shop operation.


 

嘉宾履历

Robert Eklund

迈康尼电子设备（上海）有限公司 产品经理

 

Robert Eklund是Mycronic AB的产品经理。他在公司的多个岗位上有13年的工作经验，主要从事研发工作，他参与了使用开创性技术对FPD和IC生产所用的光刻机进行的研发工作。

 

在演讲中，我们会对生产高端显示面板所使用的光罩的重要性加以讨论。Robert拥有光罩生产和其他相邻领域的多项专利。在开始职业生涯前，Robert获得了斯德哥尔摩皇家理工学院工程物理理学硕士学位。

  



 

参会费用

 

票价：3500元/人；

早鸟价：3000元/人，优惠码：【DIC2021】5.31前报名专享

（早鸟价已截止~）

会员价：3000元/人（液晶分会CODA会员专享，会员码请联系协会工作人员索取）


                                  

  联系方式

CODA

Mobile: 010-5716-1800

E-mail: member@coda.sinanet.com

 

JTB 胡女士

Mobile: +86 18616824191

E-mail: dic2021@jtbsha.com

 

DIC Forum 



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DIC EXPO

2021年DIC EXPO观众火热报名中……

 

展会时间：2021.6.30-7.2

 

展会地址：上海新国际博览中心


DIC EXPO